| 著者・編集 | 月刊JETI編集部編 |
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| 発売日 | 2026/02/22 |
| ISBNコード | 978-4-910875-77-4 |
| 体裁 | B5判・112ページ |
| 価格 | 定価2,750 円 （税込・送料別） |
■半導体製造プロセスと材料
高耐圧GaN縦型MOSFET技術
田中 亮，高島 信也
（富士電機）
新規無機系陰イオンキャッチャー「IXE®-700H」
有馬 弘，山田 喜直
（東亞合成）
耐ラジカル向上材料FLUORITZ®-TX
野口 仁志，村上 辰也
（バルカー）
サファイア隔膜真空計（形V8）の開発
進化する半導体プロセス装置のニーズに合わせて，デポシフト課題の解決，
小型化，高温化，高速化に対応した隔膜真空計
小原 圭輔
（アズビル）
半導体製造プロセスへの親和性予測指標の適用検討
〜半導体関連材料の効率的な開発に向けた活用のご提案〜
島森 拓土，寺谷 武
（住化分析センター）
■高機能樹脂・添加剤の最新動向
「密着」と「耐性」で差をつける
水系ウレタンプライマー技術
金子 文弥
（第一工業製薬）
高速硬化・耐黄変・PFASフリーガレートアニオン型酸発生剤
新田 真也
（サンアプロ）
CMP用ポリマー添加剤の開発
藤本 悠椰
（東亞合成）
ポリ乳酸の発泡メカニズム解明とバイオマス度100%への挑戦
小林 雅秀
（リコー）
カーボンブラック充填プラスチックの電気特性
琴原 優輝
（奈良県産業振興総合センター）
用途広がる リショーライト
熱硬化性樹脂積層管
吉岡 達也
（利昌工業）
■ゴム・エラストマー材料に関する研究
原子間力顕微鏡像におけるフィラー領域とゴム領域の区別手法の開発
石田 拓也，八木 駿，岩蕗 仁，中嶋 健
（岡山県工業技術センター／東京科学大学）
FFKMリサイクル技術開発
野口 仁志，鈴木 康正，水門 潤治，山根 祥吾，青柳 将
（バルカー／産業技術総合研究所）
省スペース，メンテナンス性を向上させた新型電子線照射装置EB-XW®
永井 雅浩，馬場 隆，水谷 睦，林 泰隆
（NHVコーポレーション）
タイヤのトレッドプロファイルとコーナリング特性の関係に関する研究
豊島 貴行，樋口 英生，松澤 俊明，穂高 武，酒井 智紀
（ホンダ・レーシング／本田技術研究所／本田技研工業）
■難燃技術に関する研究・有力各社の難燃剤
現場生産性向上を図る高機能プラスチック製品の開発（第14報）
―難燃性プラスチック複合材料の開発（4）―
丹羽 厚至
（岐阜県産業技術総合センター）
難燃性を有する低誘電材料の開発
橋本 裕輝
（日本曹達）
ジェッティング布設可能な超多心I/O WTC
引間 大輔，山木 裕介，辻本 悠介，浮谷 典孝，古川 亨
（フジクラ）
有力各社の難燃剤
（阪本薬品工業／マナック／里田化工）
■コラム
イオン交換樹脂販売店史 V WofatitとLewatit
大盛 和人
■データセンター市場における AIデバイス動向（連載：第 7 回）
■魔法使いの弟子No.334
■トピックス
東レ，三菱電機，島津製作所，荏原製作所，リガク，アサヒ飲料，JEPLAN，
ペットリファインテクノロジー，ユニチカ，三菱ケミカル，三井化学，横浜ゴム，
九州大学，大阪大学大学院，パナソニック