月刊JETI 2026年3月号

月刊JETI2026年3月号



特集  半導体製造プロセスと材料

高耐圧GaN縦型MOSFET技術

･･････････････････････田中　亮，高島　信也
（富士電機）

新規無機系陰イオンキャッチャー「IXE^®-700H」


･････････････････････有馬　弘，山田　喜直
（東亞合成）

耐ラジカル向上材料FLUORITZ^®-TX

･････････････････････野口　仁志，村上　辰也
（バルカー）

サファイア隔膜真空計（形V8）の開発
進化する半導体プロセス装置のニーズに合わせて，デポシフト課題の解決，
小型化，高温化，高速化に対応した隔膜真空計


･･････････････････････小原　圭輔
（アズビル）

半導体製造プロセスへの親和性予測指標の適用検討
〜半導体関連材料の効率的な開発に向けた活用のご提案〜


･････････････････････島森　拓土，寺谷　武
（住化分析センター）

特集  高機能樹脂・添加剤の最新動向

「密着」と「耐性」で差をつける
水系ウレタンプライマー技術


･･････････････････････金子　文弥
（第一工業製薬）

高速硬化・耐黄変・PFASフリーガレートアニオン型酸発生剤

･･････････････････････新田　真也
（サンアプロ）

CMP用ポリマー添加剤の開発

･･････････････････････藤本　悠椰
（東亞合成）

ポリ乳酸の発泡メカニズム解明とバイオマス度100%への挑戦

･･････････････････････小林　雅秀
（リコー）

カーボンブラック充填プラスチックの電気特性

･･････････････････････琴原　優輝
（奈良県産業振興総合センター）

用途広がる　リショーライト 熱硬化性樹脂積層管

･･････････････････････吉岡　達也
（利昌工業）

特集  ゴム・エラストマー材料に関する研究

原子間力顕微鏡像におけるフィラー領域とゴム領域の区別手法の開発


･･････････････････････石田　拓也，八木　駿，岩蕗　仁，中嶋　健
（岡山県工業技術センター／東京科学大学）

FFKMリサイクル技術開発


･･････････････････････野口　仁志，鈴木　康正，水門　潤治，山根　��吾，青柳　将
（バルカー／産業技術総合研究所）

省スペース，メンテナンス性を向上させた新型電子線照射装置EB-XW^®


･･････････････････････永井　雅浩，馬場　隆，水谷　睦，林　泰隆
（NHVコーポレーション）

タイヤのトレッドプロファイルとコーナリング特性の関係に関する研究


･･････････････････････豊島　貴行，樋口　英生，松澤　俊明，穂高　武，酒井　智紀
（ホンダ・レーシング／本田技術研究所／本田技研工業）

特集  難燃技術に関する研究・有力各社の難燃剤

現場生産性向上を図る高機能プラスチック製品の開発（第14報）
―難燃性プラスチック複合材料の開発（4）―


･･････････････････････丹羽　厚至
（岐阜県産業技術総合センター）

難燃性を有する低誘電材料の開発


･･････････････････････橋本　裕輝
（日本曹達）

ジェッティング布設可能な超多心I/O WTC


･･････････････････････引間　大輔，山木　裕介，辻本　悠介，浮谷　典孝，古川　亨
（フジクラ）

有力各社の難燃剤


（阪本薬品工業／マナック／里田化工）

コラム　イオン交換樹脂販売店史 �X　WofatitとLewatit(大盛　和人)

データセンター市場における AIデバイス動向（連載：第7回）

魔法使いの弟子

トピックス

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